產(chǎn)品目錄 / Product catalog
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產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
查看詳細(xì)介紹產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)是專門(mén)為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì),特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
查看詳細(xì)介紹CVD系統(tǒng)系周期作業(yè),供企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,大專院校,科研院所等單位選用,設(shè)備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境,應(yīng)用在半導(dǎo)體,納米技術(shù),碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。
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